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Use of chitosan to increase appressorium formation, parasitism of phytopathogenic nematodes and rhizospheric colonization by Pochonia chlamydosporia
专利权人:
UNIVERSIDAD DE ALICANTE
发明人:
LOPEZ LLORCA, LUIS VICENTE,ESCUDERO BENITO, NURIA,LOPEZ MOYA, FEDERICO
申请号:
ES201431399
公开号:
ES2521990A1
申请日:
2014.09.25
申请国别(地区):
ES
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to the use of chitosan to increase appressorium formation in Pochonia chlamydosporia and / or increase the pathogenicity of Pochonia chlamydosporia on nematode eggs. The present invention also relates to the use of chitosan to increase plant root colonization by Pochonia chlamydosporia without affecting their development.La presente invención se refiere al uso de quitosano para aumentar la formación de apresorios en Pochonia chlamydosporia y/o aumentar la patogenicidad de Pochonia chlamydosporia sobre huevos de nematodos. La presente invención también se refiere al uso de quitosano para aumentar la colonización de raíces de plantas por Pochonia chlamydosporia sin afectar al desarrollo de las mismas.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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