[Problem] To provide a material for cell growth, said material being flexible and assuring a high cell growth rate. [Solution] A scaffold material for cell growth, characterized in that the surface of a scaffold base material, which is formed of polyvinylidene chloride, has been plasma-treated by exposing to a plasmatized inert gas (for example, argon gas) atmosphere. The plasmatization can be conducted by using a magnetron sputtering device. In this case, it is preferred to employ as a target electrode a material which generates no sputtering particles in ion sputtering, for example, titanium or stainless.La présente invention concerne un matériau pour la croissance cellulaire, ledit matériau étant souple et assurant un taux de croissance cellulaire élevé. Linvention concerne un matériau servant déchafaudage pour la croissance cellulaire, caractérisé en ce que la surface dun matériau de base servant déchafaudage, qui est formé de chlorure de polyvinylidène, a été traité au plasma par exposition à une atmosphère de gaz inerte plasmatisé (par exemple, du gaz argon). La plasmatisation peut être conduit en utilisant un dispositif de pulvérisation à magnétron. Dans ce cas, il est préférable dutiliser comme électrode cible un matériau qui ne produit aucune particule de pulvérisation dans la pulvérisation ionique, par exemple, en titane ou inoxydable.【課題】柔軟性があり、且つ細胞増殖速度の速い細胞増殖用材料を提供する。 【解決手段】本発明の細胞増殖用の足場材料は、ポリ塩化ビニリデンからなる足場基材の表面が、プラズマ化した不活性ガス(例えばアルゴンガス)雰囲気下に曝されるプラズマ処理が施されていることを特徴とする。プラズマ処理は、マグネトロンスパッタリング装置を用いて行うことができるが、この場合において、ターゲット電極にはイオンスパッタによるスパッタ粒子の発生しない材料(例えばチタンやステンレス)を用いることが好ましい。
