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A composition for preventing light-induced damage comprising quercetin genistein and alpha-lipoic acid
专利权人:
박정혜;PARK, JEUNG HYE
发明人:
박정혜,PARK, JEUNG HYEKR
申请号:
KR1020180146293
公开号:
KR1020200061000A
申请日:
2018.11.23
申请国别(地区):
KR
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to a composition for preventing light damage containing quercetin, genistein and alphalipoic acid, and more specifically, containing quercetin, genistein and alphalipoic acid as an active ingredient, suppressing the toxicity of skin cells by ultraviolet rays, and It relates to a composition for preventing and improving skin damage caused by ultraviolet rays, which has an effect of alleviating aging symptoms of skin cells.본 발명은 퀘르세틴, 제니스테인 및 알파리포산을 함유하는 광손상 방지용 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 퀘르세틴, 제니스테인 및 알파리포산을 유효성분으로 함유하는, 자외선에 의한 피부 세포의 독성을 억제하고, 자외선에 의한 피부 세포의 노화증상을 완화하는 효과를 가지는, 자외선에 의한 피부 손상 예방 및 개선용 조성물에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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