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粒子線照射システム
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
TOTAKE SATOSHI,遠竹 聡,UMEZAWA MASUMI,梅澤 真澄,SAKURAHATA HIROAKI,櫻畠 広明,IMAGAWA TOMOHISA,今川 知久
申请号:
JP2015062041
公开号:
JP2016179115A
申请日:
2015.03.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle beam irradiation system capable of more accurately adjusting a beam trajectory after a medical treatment starts.SOLUTION: A beam path 16 of HEBT (High Energy Beam Transport) system 15 connected to an accelerator 4 communicates with a beam path 21 of a GABT (Gantry Beam Transport) system 20 mounted on a rotary gantry 26. The beam path 21 communicates also with an irradiation device 29 mounted on the rotary gantry 26. Steering electromagnets HH1,HH2 and beam position monitors HP1,HP2 are arranged along the beam path 16. Steering electromagnets GH1,GH2 are arranged along the beam path 21 and beam position monitors PRM,SPM are mounted on the irradiation device 29. In adjustment of a beam trajectory to be performed after a medical treatment with ion beam starts, excitation currents to be supplied to respective steering electromagnets GH1,GH2 are calculated by using beam positions measured by the beam position monitors PRM,SPM.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】治療開始後におけるビーム軌道の調整をさらに精度良く行うことができる粒子線照射システムを提供する。【解決手段】加速器4に接続されたHEBT系15のビーム経路16は、回転ガントリー26に取り付けられたGABT系20のビーム経路21に連絡される。ビーム経路21は、さらに、回転ガントリー26に取り付けられた照射装置29に連絡される。ステアリング電磁石HH1,HH2及びビーム位置モニタHP1,HP2がビーム経路16に沿って配置される。ステアリング電磁石GH1,GH2がビーム経路21に沿って配置され、ビーム位置モニタPRM,SPMが照射装置29に取り付けられる。イオンビームによる治療が開始された後に実施されるビーム軌道の調整において、ビーム位置モニタPRM,SPMで測定されたビーム位置を用いてステアリング電磁石GH1,GH2のそれぞれに供給する励磁電流を算出する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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