It relates to a cryogenic treatment device, wherein the cryogenic treatment device includes a platform for accommodating a user； A supply manifold device connected to the liquid nitrogen supply tank to control a supply amount of liquid nitrogen； A vaporizer in which liquid nitrogen is vaporized； A supply pipe for supplying the nitrogen gas mixture vaporized from the vaporizer to the platform； A blower motor and a pipe for external air for introducing external air into the vaporizer； A recirculation blower motor and pipe for recirculating the nitrogen gas mixture from the platform to the vaporizer； And the amount of liquid nitrogen supplied to the vaporizer, the amount of external air introduced into the vaporizer, and the amount of the nitrogen gas mixture to be recycled to control the temperature of the nitrogen gas mixture supplied to the platform and the amount of vaporization in the vaporizer. It may include a control unit that adjusts at least one.극저온 치료 장치에 관한 것이며, 극저온 치료 장치는 사용자를 수용하는 플랫폼； 액체질소 공급탱크와 연결되어 액체질소의 공급량을 조절하는 공급 매니폴드 장치； 액체질소의 기화가 이루어지는 기화기； 상기 기화기로부터 기화된 질소가스 혼합물을 상기 플랫폼으로 공급하는 공급용 파이프； 외부공기를 상기 기화기로 유입시키는 외부공기용 송풍모터 및 파이프； 상기 플랫폼으로부터 질소가스 혼합물을 상기 기화기로 재순환시키는 재순환용 송풍모터 및 파이프； 및 상기 플랫폼에 공급되는 질소가스 혼합물의 온도와 상기 기화기 내의 기화량을 조절하기 위해, 상기 기화기에 공급되는 액체질소의 양, 상기 기화기로 유입되는 외부공기의 양 및 재순환되는 질소가스 혼합물의 양 중 적어도 하나를 조절하는 제어부를 포함할 수 있다.
