This planting system is provided with: a planting device (1) having a plant growth substrate (4) in which plants (3) are planted, an irrigation device (5), and a fan (6) and an irrigation control device (22). The irrigation control device (22) controls the amount of irrigation in accordance with the amount of airflow in the plant growth substrate (4) from the fan (6). The irrigation control device (22) may fix the amount of irrigation done each time and control the interval between irrigation, or, the times for irrigation being fixed, may control the amount of irrigation done each time.Linvention concerne un système de plantation qui comporte : un dispositif de plantation (1) ayant un substrat de croissance de plante (4) dans lequel des plantes (3) sont plantées, un dispositif dirrigation (5) et un ventilateur (6) et un dispositif de commande dirrigation (22). Le dispositif de commande dirrigation (22) commande la quantité dirrigation en fonction de la quantité découlement dair dans le substrat de croissance de plante (4) provenant du ventilateur (6). Le dispositif de commande dirrigation (22) peut fixer la quantité dirrigation réalisée à chaque fois et commander lintervalle entre lirrigation ou, les temps dirrigation étant fixes, peut commander la quantité dirrigation réalisée à chaque fois.植物(3)が植えられる植物生育基盤(4)、灌水装置(5)、およびファン(6)を有する植栽装置(1)と、灌水制御装置(22)とを備える。灌水制御装置(22)は、ファン(6)による植物生育基盤(4)の通気量に応じて灌水量を制御する。灌水制御装置(22)は、1回に行う灌水の量を一定量とし、灌水の間隔を制御するようにしてもよく、また灌水を行う時刻が定まっていて、1回に行う灌水の量を制御するようにしてもよい。
