您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

PLANTING SYSTEM AND WATERING METHOD
专利权人:
DAIWA HOUSE INDUSTRY CO LTD;大和ハウス工業株式会社
发明人:
NISHIBE HIROHARU,西部 洋晴,KAWAME YUSUKE,河目 裕介,AMAMOTSU MISAKI,天保 美咲,KUBOTA KENZO,久保田 謙三
申请号:
JP2016068864
公开号:
JP2017176045A
申请日:
2016.03.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planting system that is capable of performing appropriate watering to suppress over-moisture and over-drying, and requires no soil moisture sensor and no consideration of the accuracy and lifetime of sensors.SOLUTION: According to the present invention, there is provided a planting system comprising: a planting device 1 having a plant growth substrate 4 on which a plant 3 is planted, a watering device 5, and a fan 6; and a watering control device 22. Here, the watering control device 22 controls an amount of watering in accordance with the amount of aeration in the plant growth substrate 4 by the fan 6. The watering control device 22 may define a constant amount of watering to be performed at one time and adjust the interval of watering or may control an amount of watering to be performed at one time on the basis of the predetermined time of watering.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】過湿、過乾燥を抑制する適切な灌水が行え、かつ土壌水分センサが不要で、センサ類の精度や寿命を考量せずに済む植栽システムを提供する。【解決手段】植物3が植えられる植物生育基盤4、灌水装置5、およびファン6を有する植栽装置1と、灌水制御装置22とを備える。灌水制御装置22は、ファン6による植物生育基盤4の通気量に応じて灌水量を制御する。灌水制御装置22は、1回に行う灌水の量を一定量とし、灌水の間隔を制御するようにしても、また灌水を行う時刻が定まっていて、1回に行う灌水の量を制御するようにしてもよい。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充