金属パターン描画方法および金属パターン付き基材
- 专利权人:
- 東レエンジニアリング株式会社
- 发明人:
- 友枝 哲,獅野 和幸,福島 雄悟,木浦 敦之
- 申请号：
- JP20150212274
- 公开号：
- JP2017080685(A)
- 申请日:
- 2015.10.28
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】腐食のおそれなく微細な金属パターンをインクジェット法で形成することができる金属パターン描画方法および金属パターン付き基材を提供する。【解決手段】基材Ｗ上に絶縁膜２０を形成する絶縁膜形成工程と、絶縁膜２０上にインクジェットヘッド法により金属インク１１を塗布して金属インク１１による金属パターン１０を描画する描画工程と、を有し、金属インク１１の表面張力は２０〜５０ｍＮ／ｍであり、絶縁膜２０はフッ素を含有せず、かつ金属インク１０との接触角が３２°以上である。【選択図】図１
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