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プラズマ滅菌装置、プラズマ滅菌システムおよびプラズマ滅菌方法
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
丹藤 匠,根岸 伸幸,板橋 直志
申请号:
JP2012539519
公开号:
JPWO2012053083A1
申请日:
2010.10.21
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
When performing sterilized using plasma, by measuring the emission spectrum specific to provide a device which determines the real-time activity / inactivity of bacteria, sterilized with high efficiency. Is detected by the emission intensity detector the luminescence of processing object caused by the solution, from the plasma source connected to the AC power source, and applying a plasma processing object, devoted plasma. In particular, by detecting the wavelength intensity of hydrogen or hydroxyl, can be determined at an early stage active / inactive bacteria. Therefore, it is possible to control the output of power source for sterilization.プラズマを用いて滅菌を行なう際、特定の発光スペクトルを計測することで、菌の活性/不活性をリアルタイムに判定し、高効率に滅菌する装置を提供する。解決手段として、交流電源に接続されたプラズマ源から、処理対象物にプラズマを当て、プラズマを当てられたことに起因する処理対象物の発光を発光強度検出部で検出する。特に、水素又は水酸基の波長強度を検出することで、菌の活性/不活性を早期に判定できる。したがって滅菌のための適切な電源の出力を制御することができる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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