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イオン発生装置
专利权人:
PANASONIC CORP
发明人:
KIMURA YUTA,木村 祐太,NAKASONE TAKAAKI,中曽根 孝昭,OGAWA DAISUKE,小河 大輔
申请号:
JP2013043690
公开号:
JP2014175060A
申请日:
2013.03.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To satisfy a reference of a temperature rise value of solder of a substrate even when two substrates are used.SOLUTION: Since heat from one control circuit board is prevented from being transferred to another control circuit board by a cavity 39 of a rib 40 by employing a configuration in which the rib 40 is risen, providing the cavity between two control circuit boards provided in a control circuit case, an ion generator can be obtained capable of satisfying a reference of a temperature rise value of solder of a substrate even when two substrates are used.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】2つの基板を用いた場合でも基板のはんだの温度上昇値の基準を満たすことができることを目的とする。【解決手段】制御回路ケース内に設けた2つの制御回路基板の間に空洞を設けたリブ40を立てたという構成にしたことにより、一方の制御回路基板からの熱がリブ40の空洞39によってもう一方の制御基板回路に伝わらないので、2つの基板を用いた場合でも基板のはんだの温度上昇値の基準を満たすことができるイオン発生装置を得られる。【選択図】図9
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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