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PROCÉDÉS ET MATÉRIAUX POUR RÉDUIRE LA FORMATION DE CICATRICE PENDANT LA CICATRISATION D'UNE PLAIE
专利权人:
MAYO FOUNDATION FOR MEDICAL EDUCATION AND RESEARCH
发明人:
MEVES, Alexander,WYLES, Saranya, P.
申请号:
USUS2018/000052
公开号:
WO2018/151838A1
申请日:
2018.02.16
申请国别(地区):
US
年份:
2018
代理人:
摘要:
This document provides methods and materials for reducing scar formation (e.g., scar formation during wound healing) and/or for reducing keloid formation (e.g., keloid formation that occurs during wound healing or keloid formation that does not occur during wound healing). For example, methods and materials for topically administering pentamidine to reduce scar formation and/or to reduce keloid formation are provided.Ce document concerne des procédés et des matériaux permettant de réduire la formation de cicatrices (par exemple, la formation de cicatrice pendant la cicatrisation de plaie) et/ou de réduire la formation de chéloïdes (par exemple, la formation de chéloïde qui se produit pendant la cicatrisation de plaie ou la formation de chéloïde qui ne se produit pas pendant la cicatrisation de plaie). Par exemple, l'invention concerne des procédés et des matériaux pour l'administration topique de pentamidine pour réduire la formation de cicatrices et/ou réduire la formation de chéloïdes.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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