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ION SOURCE DEVICE AND CHARGED PARTICLE BEAM THERAPY DEVICE
专利权人:
SUMITOMO HEAVY IND LTD;住友重機械工業株式会社
发明人:
KAMIGUCHI NAGAAKI,上口 長昭
申请号:
JP2018010552
公开号:
JP2019129086A
申请日:
2018.01.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide an ion source device and a charged particle beam therapy device, capable of quickly adjusting an extracted amount of ions.SOLUTION: In an ion source device, an extraction part 63 extracts ions generated in an internal space S of a body part 60 from the internal space S by forming a high frequency electric field between the body part 60 and the extraction part 63. Here, a bias power supply 67 applies a bias voltage to the body part 60. An electric field between the body part 60 and the extraction part 63 is quickly modulated by the bias voltage. Thus, the extraction part 63 can extract ions with an extraction amount according to a modulated electric field.SELECTED DRAWING: Figure 5【課題】イオンの引出量を速やかに調整することができるイオン源装置、及び荷電粒子線治療装置を提供する。【解決手段】引出部63は、本体部60との間で高周波の電場を形成することで、本体部60の内部空間Sで発生したイオンを内部空間Sから引き出す。ここで、バイアス電源67は、本体部60にバイアス電圧を印加する。本体部60と引出部63との間の電場は、バイアス電圧によって速やかに変調される。これにより、引出部63は、変調された電場に応じた引出量でイオンを引き出すことができる。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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