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Beam hardening correction for X-ray dark field imaging
专利权人:
コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
发明人:
ヤロシェンコ,アンドリー,マーク,ハンス-インゴ,ケーラー,トーマス,デ マルコ,ファビオ,グロマン,ルーカス ベネディクト,ウィラー,コンスタンティン,ノエル,ピーター
申请号:
JP2019556881
公开号:
JP2020517347A
申请日:
2018.04.17
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to beam hardening correction in X-ray dark field imaging of an object containing a first substance and a second substance, the first and second substances having different beam hardening properties. Since the x-ray imaging data contains information about the internal structure of the imaged object, such information is used with appropriate calibration data to identify the beam hardening contribution that occurs in the imaging area of the object. However, it is possible to correct artifacts caused by beam hardening in X-ray dark field imaging.本発明は、第1物質及び第2物質を含む対象のX線暗視野撮像におけるビーム・ハードニング補正に関連し、第1及び第2物質は異なるビーム・ハードニング特性を有する。X線撮像データは、撮像される対象物の内部構造に関する情報を含むので、そのような情報は、適切なキャリブレーション・データとともに使用され、対象の撮像エリアで生じるビーム・ハードニングの寄与を識別し、X線暗視野撮像におけるビーム・ハードニングに起因するアーチファクトの補正を可能にすることができる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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