ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC.
发明人:
NAN RONG CHIOU,MOHAMMAD T. ISLAM,GEORGE C. JACOB
申请号：
KR20180045296
公开号：
KR20180117562(A)
申请日:
2018.04.18
申请国别(地区):
韩国
年份:
2018
代理人:
摘要：
본 발명은 예를 들어, 하나 이상의 종점 검출창들(창들)을 갖는 반도체 기판을 연마하기 위한 화학적 기계적(CMP) 연마 패드를 제공하고, 상기 창은 2 mm의 두께에서 325 nm 이하의 파장에서 UV 컷오프를 갖고 (A) 30 내지 56wt.%의 1종 이상의 지환족 디이소시아네이트 또는 폴리이소시아네이트와 (B)(i) 경질 창에 대한 폴리카보네이트 디올 및 연질 창에 대한 폴리에테르 폴리올과 같은 500 내지 1,500의 평균 분자량을 갖는 폴리머성 디올 및 (ii) 120 내지 320의 평균 분자량을 갖는 트리올의 43 내지 69.9999 wt.%의 폴리올 혼합물(여기서, (B)(i) 폴리머성 디올 대 (B)(ii) 트리올의 중량비는 1.6:1 내지 5.2:1 범위이다) 및 촉매, 바람직하게는 2급 또는 3급 아민 또는 비스무스 네오데카노에이트의 반응 혼합물의 생성물이고, 상기 모든 중량%는 반응 혼합물의 총 고체 중량을 기준으로 한다.
