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粒子線照射装置および荷電粒子ビームの線量監視方法
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
SHINAGAWA RYOSUKE,品川 亮介,SEKIKAWA HIROYUKI,関川 博行,MATSUDA KOJI,松田 浩二,TADOKORO MASAHIRO,田所 昌宏,FUJITAKA SHINICHIRO,藤高 伸一郎
申请号:
JP2015033412
公开号:
JP2016154630A
申请日:
2015.02.23
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle beam irradiation device and a dose monitoring method of a charged particle beam, capable of measuring a dose of a charged particle beam irradiated onto an irradiation object with higher accuracy than hitherto, even when beam current intensity is changed.SOLUTION: A plurality of amplifiers 8b3-1 to 8b3-3 having each different gain for amplifying a charge signal are provided, and a pulse counter 8b3-4 is provided on each of the amplifiers 8b3-1 to 8b3-3 provided plurally, and a cumulative dose is monitored with a preset value relative to each gain.SELECTED DRAWING: Figure 3COPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】ビーム電流強度を変更した場合であっても、照射対象に照射される荷電粒子ビームの線量を従来に比べて高精度に測定することができる粒子線照射装置および荷電粒子ビームの線量監視方法を提供する。【解決手段】、電荷信号を増幅するゲインが異なるアンプ8b3-1~8b3-3を複数設け、この複数設けたアンプ8b3-1~8b3-3ごとにパルスカウンタ8b3-4を設け、ゲイン毎にプリセット値を持って積算線量を監視する。【選択図】 図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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