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BIOFILM FORMATION INHIBITORY COMPOSITION
专利权人:
花王株式会社;KAO CORP
发明人:
ASAOKA KENTARO,浅岡 健太郎,OISHI SHUN,大石 峻,SASAKI KENJI,佐々木 健二
申请号:
JP2017066827
公开号:
JP2018168095A
申请日:
2017.03.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
To provide a material that can effectively inhibit biofilm formation.SOLUTION: A biofilm formation inhibitory composition has a compound represented by the following formula (I) and an organic solvent (where R, R, R, and Rindependently represent a hydrogen atom, a C1-6 hydrocarbon group, or -CH-R, where, all of R, R, R, and Rare not hydrogen atoms at the same time; Ris a hydroxy group, a halogen atom, or -NRR; Rand Rindependently represent a hydrogen atom or a methyl group).SELECTED DRAWING: None【課題】バイオフィルム形成を効果的に抑制することができる素材の提供。【解決手段】下記式(I)で表される化合物と有機溶媒とを含有する、バイオフィルム形成抑制用組成物(式中、R1、R2、R3、及びR4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6の炭化水素基、又は-CH2-Rであり、ただし、R1、R2、R3、及びR4の全てが同時に水素原子であることはなく;R5は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、又は-NRaRbであり;Ra及びRbは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基である)。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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