光学材料用組成物及びその製造方法並びに光学材料用組成物から得られる光学材料
- 专利权人:
- 三菱瓦斯化学株式会社
- 发明人:
- 竹村 紘平,小西 哲哉,青木 崇,堀越 裕
- 申请号：
- JP20160513754
- 公开号：
- JPWO2015159811(A1)
- 申请日:
- 2015.04.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明によれば、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物を提供することができる。更に、本発明の好ましい態様によれば、下記（１）式で表される構造を有し、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下である（ａ）化合物（エピスルフィド化合物）、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）ポリチオール化合物を含む光学材料用組成物を提供することができる。【化１】（式中、ｍは０〜４の整数を表し、ｎは０または１の整数を表す。）
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
