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光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法
专利权人:
三井化学株式会社
发明人:
村上 正和
申请号:
JP20160514941
公开号:
JPWO2015163313(A1)
申请日:
2015.04.21
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
本発明の光学材料用重合性組成物は、分子内に、炭素−炭素二重結合と、イソシアナト基およびイソチオシアナト基から選択される1以上の基と、を有する化合物(A)と、ポリチオール化合物(B)と、を含む光学材料用重合性組成物。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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