化妆品基材以及含有该化妆品基材的化妆品
- 专利权人:
- 株式会社成和化成
- 发明人:
- 吉冈正人,小林惠理子,笠原淳仁,稻垣淳司,户叶隆雄,中村清香
- 申请号：
- CN201180004952.5
- 公开号：
- CN102834088A
- 申请日:
- 2011.04.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种对损伤导致毛发表面的疏水性丧失而感官特性下降的毛发表面施以疏水化、对毛发赋予柔软性、保湿性、光滑性、光泽性的化妆品基材，和含有该化妆品基材的化妆品。所述化妆品基材和化妆品含有构成氨基酸具有酸性氨基酸的肽或肽衍生物且该肽或肽衍生物为至少其阴离子性官能团的一部分与从阳离子表面活性剂以及两性表面活性剂中选择的1种以上表面活性剂形成离子络合物的肽或肽衍生物。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
