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阳离子改性半乳甘露聚糖和含有该物质的化妆材料组合物
- 专利权人:
- 东邦化学工业株式会社
- 发明人:
- 武田博光,森芳彦
- 申请号：
- CN200710141629.8
- 公开号：
- CN101129306B
- 申请日:
- 2004.05.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供具有如下特性的阳离子改性半乳甘露聚糖：在配入毛发处理用组合物中时，可给予优异的调理效果及干燥后良好的湿润感和柔软性，在配入身体用清洗剂等皮肤化妆材料组合物中时，可以改善调理效果及由乳化性能产生的使用感。具体而言，涉及通过在半乳甘露聚糖所含的部分羟基上引入特定的含季氮原子的基团而形成的阳离子改性半乳甘露聚糖，以及含有该阳离子改性半乳甘露聚糖的化妆材料组合物，其中半乳甘露聚糖是由豆科植物胡芦巴(学名Trigonellafoenum-graecum)的种子胚乳部分得到的在以甘露糖为结构单元的主链上形成了半乳糖单元侧链且甘露糖与半乳糖的组成比为1：1的非离子性多糖类。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
