The invention relates to a polysaccharide polymer of formula (I): PS-(O-CO--L-X)a(OH)b (I) in which PS denotes the basic background of the polysaccharide bearing the hydroxyl groups L is a hydrocarbon-based divalent group comprising from 1 to 20 carbon atoms X denotes an azide or diazirine photoactive group a denotes the amount of OH groups substituted with the photoactive group b denotes the amount of unsubstituted free OH groups a being between 0.02 and 0.5 b being between 0.5 and 0.98 and a + b = 1. The invention also relates to a composition comprising the polymer (I) in a physiologically acceptable medium, and also to a cosmetic skincare process comprising the topical application of said composition to the skin and the exposure of the treated skin to light radiation.Linvention concerne un polymère polysaccharide de formule (I): PS-(O-CO--L-X)a(OH)b (I) dans laquelle PS désigne le squelette de base du polysaccharide portant les groupes hydroxyle L est un groupe divalent hydrocarboné comprenant de 1 à 20 atome de carbone X désigne un groupe photoactif de type azide ou diazirine a désignele taux de groupe OH substitué par le groupe photoactif b désigne le taux de groupe OH libres non substitués a étant compris entre 0,02 et 0,5 b étant compris entre 0,5 et 0,98 et a + b = 1. Linvention concerne également une composition comprenant le polymère (I) dans un milieu physiologiquement acceptable, ainsi quun procédé cosmétique de soin de la peau comprenant lapplication topique sur la peau de ladite composition et lexposition de la peau traitée à un rayonnement lumineux.
