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粒子線治療システム及び粒子線照射方法
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
OKAZAKI TAKASHI,岡崎 隆司,UMEZAWA MASUMI,梅澤 真澄
申请号:
JP2010171309
公开号:
JP2012029821A
申请日:
2010.07.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle beam medical treatment system by which the time of particle beam irradiation can be shortened and the uniformity of dose distribution can be maintained.SOLUTION: The particle beam medical treatment system includes an accelerator 2 to accelerate the ion beam, an irradiation nozzle 5 to irradiate an irradiation object with the ion beam, and an irradiation control part 9 to control the irradiation nozzle 5. The irradiation nozzle 5 includes a scanning electromagnet 13 to change an ion beam irradiation position. The irradiation control part 9 includes a storage device to store data representing relation between error information between a target irradiation position of the irradiation object and an average beam position when a target irradiation position is irradiated with the ion beam, and target irradiation dose information of the ion beam with which the target irradiation position is irradiated. The irradiation control part 9 control excitation current of a scan electromagnet 13 to correct the ion beam irradiation position on the basis of data representing relation between the error information stored in the storage device and the target irradiation dose information.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】イオンビームの照射時間を短縮し、かつ線量分布の一様度を維持することができる粒子線治療システムを提供することを課題とする。【解決手段】イオンビームを加速する加速器2と、イオンビームを照射対象に照射する照射ノズル5と、照射ノズル5を制御する照射制御部9を備え、照射ノズル5は、イオンビームの照射位置を変更する走査電磁石13を有し、照射制御部9は、照射対象の目標照射位置と当該目標照射位置にイオンビームを照射したときの平均ビーム位置との誤差情報と、目標照射位置に照射するイオンビームの目標照射線量情報との関係を示すデータを記憶する記憶装置を有し、照射制御部9は、記憶装置に記憶された誤差情報と目標照射線量情報の関係を示すデータに基づいて、走査電磁石13の励磁電流を制御してイオンビームの照射位置を補正することで上記課題を解決することができる。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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