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ドープポリマー上に電気的に接触可能な領域を製造する方法およびその方法により製造される成形物体
专利权人:
ロンザ ケルン ゲーエムベーハー
发明人:
ミュラー-ハルトマン、ヘルベルト,フェルンバッハ、エヴァルト,シーベンコッテン、グレゴル
申请号:
JP2006536210
公开号:
JP5032847B2
申请日:
2004.10.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Provide a method for producing an electrical contact area of ​​at least one polymer that is doped with a conductive material. Contact material 10, 11 are attached to the polymer, the contact material 10, 11 has a specific resistance of 23 ℃ lower than the polymer. Contact material 10 and 11, is subjected closely to the polymer to be in intimate contact with the conductive material. By subjected to contact material 10, 11 of lower resistivity than that of the polymer in close proximity, input resistance of the doped polymer can be effectively reduced. Furthermore, prepared from a polymer doped with a conductive material, and an electrical contact area of ​​the at least one contact material 10, 11 are attached to the polymer in the region, the contact material 10 and 11 than the polymer provision of shaped bodies 1 and 2 having a specific resistance at 23 ℃ lower. Contact material 10 and 11 are attached tightly to the polymer to be in close contact with the conductive material. Shaped bodies 1, 2 Such shows an input resistance that has been significantly reduced. [Selection] Figure Figure 1導電性物質でドープされたポリマーに少なくとも1つの電気接触可能な領域を製造する方法の提供。前記ポリマーに接触材料10、11が付され、接触材料10、11が前記ポリマーより低い23℃の比抵抗を有する。接触材料10、11は、前記導電性物質と密に接触するように前記ポリマーへ密接に付される。前記ポリマーより低い比抵抗の接触材料10、11が密接して付されることで、前記ドープポリマーの入力抵抗が効率的に低減する。さらに、導電性物質でドープされたポリマーから製造され、少なくとも1つの電気接触可能な領域を備え、前記領域内で接触材料10、11が前記ポリマーに付され、接触材料10、11が前記ポリマーよりも低い23℃における比抵抗を有する成形物体1、2の提供。接触材料10、11は、前記導電性物質と密に接触するように前記ポリマーへ密接に付されている。このような成形物体1、2は、著しく低減された入力抵抗を示す。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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