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Device for RF skin treatment
专利权人:
コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
发明人:
ユルナ,マルティン,パレロ,ジョナサン アランブラ,バラゴナ,マルコ,ホートン,マーガレット ルース,ヴァルゲーゼ,バブ,ユルナ,マルティン,パレロ,ジョナサン アランブラ,バラゴナ,マルコ,ホートン,マーガレット ルース,ヴァルゲーゼ,バブ
申请号:
JP2016570252
公开号:
JP2017516575A
申请日:
2015.06.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a device (100) for RF skin treatment having an outer electrode disposed on the working surface side (15) of the device. The outer electrode has an annular or equilateral polygonal shape. The inner electrode (1) is disposed at the center of the outer electrode and is surrounded by the outer electrode. The RF generator (21) is configured to apply an RF treatment voltage between the inner electrode (1) and the outer electrode (2). The skin contact surface of the inner electrode has a maximum cross-sectional dimension in the range of 200 to 500 μm and the RF treatment voltage is less than 50V. The present invention provides a device with improved safety, enables the formation of fragmented skin lesions that are not removed, and in particular has a relatively low RF for skin treatment compared to existing devices. Uses treatment voltage and does not require feedback or monitoring system.本発明は、デバイスの作用面側(15)に配置される外側電極を有するRFスキントリートメントのためのデバイス(100)に関連する。外側電極は環状又は等辺多角形の形状を有する。内側電極(1)は、外側電極の中心部に配置され且つ外側電極により包囲される。RF生成部(21)が、内側電極(1)及び外側電極(2)の間にRFトリートメント電圧を与えるように構成される。内側電極の皮膚接触面は、200ないし500μmの範囲内にある最大断面寸法を有し、RFトリートメント電圧は50V未満である。本発明は改善された安全性を有するデバイスを提供し、除去されない断片化された皮膚損傷の形成を可能にし、特に、既存のデバイスと比較して、皮膚の処置のために相対的に低いRFトリートメント電圧を使用し、フィードバック又はモニタリングシステムを要しない。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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