PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a silica film from polysilazane on a base material in a short time.SOLUTION: The method for manufacturing the silica film comprises the steps of: forming a polysilazane film containing polysilazane on the base material and irradiating the formed polysilazane film with a laser beam or a microwave to convert polysilazane into silica.COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT【課題】基材上に、ポリシラザンから生成されるシリカ膜を短時間で形成できる方法を提供する。【解決手段】基材上に、ポリシラザンを含有するポリシラザン膜を形成した後、レーザ光またはマイクロ波を照射して前記ポリシラザンをシリカに転化させる工程を有するシリカ膜の製造方法。【選択図】なし
