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原子層堆積のための動的前駆体注入
- 专利权人:
- ラム リサーチ コーポレーションＬＡＭ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
- 发明人:
- プルショッタム・クマル,アドリアン・ラボワ,ジュン・チエン,フー・カン,イシュタク・カリム,フン・スオン・オウ
- 申请号：
- JP20160192428
- 公开号：
- JP2017085088(A)
- 申请日:
- 2016.09.30
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】原子層堆積に用いる前駆体の使用量を低減する方法を提供する。【解決手段】方法は、ガスラインを通じてガスを流すことと、注入工程の前にアンプル弁１１４／１１６を開放して、ガスラインを通るアンプルから処理チャンバへの前駆体の流れを開始することと、アンプル弁を閉鎖して前駆体がアンプル１０４から流出しないようにすることを含む。更に、注入工程の開始時に処理チャンバ弁１２２を開放して、前駆体の流れが処理チャンバ１２８に入るようにすることと、注入工程の終了時に処理チャンバ弁を閉鎖して、前駆体の流れが処理チャンバに入らないようにすること、とを含む。制御装置は、少なくとも１つのメモリおよび少なくとも１つのプロセッサを備える。少なくとも１つのメモリは、少なくとも１つのプロセッサが半導体処理
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
