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粒子線照射装置及び粒子線治療装置
专利权人:
Mitsubishi Electric Corporation
发明人:
KATAYOSE Tadashi,片寄雅
申请号:
JPJP2010/064073
公开号:
WO2012/023205A1
申请日:
2010.08.20
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
The purpose of the invention is to obtain a particle beam-irradiating device that allows variation of the combination of multiple parameters in particle beam irradiation, such as combinations of irradiation field with irradiation positional accuracy, and is capable of diverse irradiation variations. The particle beam-irradiating device (58) irradiates the target being irradiated (11) with a charged particle beam (3) that is accelerated by an accelerator (54), and is provided with scanning electromagnets (1,2) that scan the charged particle beam (3), and a scanning electromagnet-moving device (4) that moves the scanning electromagnets (1,2) to change the distance between the scanning electromagnets (1,2) and the target being irradiated (11) in the direction of the beam axis of the charged particle beam (3).La présente invention concerne un dispositif dirradiation par faisceau de particules, qui permet de faire varier la combinaison de paramètres multiples dans une irradiation par faisceau de particules, par exemple des combinaisons de champ dirradiation avec une précision de position dirradiation, et qui est apte à provoquer des variations dirradiation diverses. Ledit dispositif dirradiation par faisceau de particules (58) irradie la cible subissant lirradiation (11) par un faisceau de particules chargées (3) accéléré par un accélérateur (54). Ledit dispositif est pourvu délectroaimants de balayage (1,2) qui balayent le faisceau de particules chargées (3), et dun dispositif de déplacement délectroaimants de balayage (4) qui déplace les électroaimants de balayage (1,2) pour modifier la distance entre les électroaimants de balayage (1,2) et la cible subissant lirradiation (11), dans le sens de laxe du faisceau de particules chargées (3).照射野及び照射位置精度の組み合わせ等の粒子線照射における複数のパラメータの組み合わせを可変にし、多様な照射バリエーションの照射を行うことができる粒子線照射装置を得ることを目的とする。 加速器(54)により加速された荷電粒子ビーム(3)を照射対象(11)に照射する粒子線照射装置(58)であって、荷電粒子ビーム(3)を走査する走査電磁石(1、2)と、荷電粒子ビーム(3)のビーム軸方向における走査電磁石(1、2)と照射対象(11)との距離を変更するように走査電磁石(1、2)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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