A dual head plasma device having a microcurrent supplying function according to the present invention comprises: a first head (10) including a first head electrode (11) to which high voltage for forming plasma is applied and which has at least a semispherical part, and a first dielectric layer (12) covering the semispherical part of the first head electrode (11)； and a second head (20) including a second head electrode (21) to which high voltage for forming plasma is applied and which has a semispherical part, and a second dielectric layer (22) covering the semispherical part of the second head electrode (21). The first head (10) and the second head (20) are coupled to a housing (40) and separated in a neighboring position. Accordingly, a large amount of microcurrent can be supplied to the skin.본 발명에 따른 미세 전류 공급 기능을 갖는 듀얼헤드 플라즈마 장치는, 플라즈마 형성을 위한 고전압이 인가되고 반구 형상 부분을 적어도 구비하는 제 1 헤드 전극(11)과, 상기 제 1 헤드 전극(11)의 반구 형상 부분을 감싸는 제 1 유전체층(12)을 포함하여 구성되는 제 1 헤드(10)； 및 플라즈마 형성을 위한 고전압이 인가되고 반구 형상 부분를 적어도 구비하는 제 2 헤드 전극(21)과, 상기 제 2 헤드 전극(21)의 반구 형상 부분을 감싸는 제 2 유전체층(22)을 포함하여 구성되는 제 2 헤드(20)；를 포함하며, 상기 제 1 헤드(10)와 상기 제 2 헤드(20)는 하우징(40)에 결합되되 서로 이웃하는 위치에서 분리 구성되는 것을 특징으로 한다.
