甘草次酸修饰的恩替卡韦脂质体制剂及其制备方法
- 专利权人:
- 正大天晴药业集团股份有限公司
- 发明人:
- 王善春,张喜全,顾红梅,韩苗苗,王祥建,张来芳,于飞
- 申请号：
- CN201511009226.9
- 公开号：
- CN105412015A
- 申请日:
- 2015.12.28
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明属于药物制剂领域，具体涉及一种甘草次酸修饰的恩替卡韦脂质体制剂及其制备方法。本发明的恩替卡韦脂质体制剂通过甘草次酸和聚乙二醇对磷脂进行修饰而制得。这种恩替卡韦脂质体肝靶向性好，毒性小，包封率高，粒径均匀，且批次间差异小。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
