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PROCÉDÉ DE TRAITEMENT
专利权人:
ウシオ電機株式会社;USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人:
NAITO, Keisuke,内藤敬祐
申请号:
JPJP2018/007117
公开号:
WO2018/168433A1
申请日:
2018.02.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
The purpose of the present invention is to provide a treatment method that can efficiently sterilize and deodorize using ozone, without humidifying an object to be treated. This treatment method is characterized by: obtaining an ozone-containing gas by emitting, at an ozone source gas, light for ozone generation which has a wavelength of 200 nm or less and does not include light in a wavelength range which causes decomposition of ozone; and treating the object to be treated by exposing the object to be treated to the obtained ozone-containing gas under low-humidity conditions in which relative humidity is 55% or less.La présente invention concerne un procédé de traitement qui peut stériliser et désodoriser de manière efficace par l'utilisation d'ozone, sans humidification d'un objet à traiter. Ce procédé de traitement est caractérisé par : l'obtention d'un gaz contenant de l'ozone par émission, au niveau d'un gaz source d'ozone, de lumière pour la génération d'ozone qui présente une longueur d'onde de 200 nm ou moins et ne comprend pas de lumière sous une plage de longueurs d'ondes qui entraîne la décomposition de l'ozone ; et le traitement de l'objet à traiter en exposant l'objet à traiter au gaz contenant de l'ozone obtenu dans des conditions de faible humidité dans lesquelles l'humidité relative est de 55 % ou moins.本発明は、処理対象体を加湿することなく、オゾンを利用して効率よく殺菌処理や脱臭処理を行うことのできる処理方法を提供することを目的とする。 本発明の処理方法は、オゾンを分解する波長域の光を含まず、かつ波長200nm以下の光であるオゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによってオゾン含有気体を得、得られたオゾン含有気体に処理対象体を相対湿度が55%以下の低湿度条件で曝露することにより、当該処理対象物を処理することを特徴とする。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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