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PROCESSING METHOD
专利权人:
ウシオ電機株式会社;USHIO INC
发明人:
NAITO KEISUKE,内藤 敬祐
申请号:
JP2017050203
公开号:
JP2018153238A
申请日:
2017.03.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing method capable of performing a germicidal treatment or a deodorization treatment efficiently by utilizing ozone without humidifying a processing object.SOLUTION: In a processing method, ozone generation light which is light having a wavelength of 200 nm or less and not including a wavelength region decomposing ozone, is radiated to ozone raw material gas to obtain ozone-containing gas, and a processing object is exposed to the obtained ozone-containing gas under a low humidity condition having a relative humidity of 55% or lower, to thereby process the processing object.SELECTED DRAWING: Figure 2【課題】処理対象体を加湿することなく、オゾンを利用して効率よく殺菌処理や脱臭処理を行うことのできる処理方法を提供すること。【解決手段】本発明の処理方法は、オゾンを分解する波長域の光を含まず、かつ波長200nm以下の光であるオゾン生成用光を、オゾン原料気体に対して照射することによってオゾン含有気体を得、得られたオゾン含有気体に処理対象体を相対湿度が55%以下の低湿度条件で曝露することにより、当該処理対象物を処理することを特徴とする。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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