您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

SINGLE-LAYER MATERIALS BASED ON TRANSITION METAL SILICON-OXYNITRIDES FOR BIOMEDICAL APPLICATIONS
专利权人:
INSTITUTUL NAŢIONAL DE CERCETARE-DEZVOLTAREPENTRU OPTOELECTRONICĂ - INOE 2000
发明人:
VLĂDESCU ALINA,VLĂDESCU ALINA,BRAIC MARIANA,BRAIC MARIANA,BRAIC VIOREL,BRAIC VIOREL,BĂLĂCEANU MIHAI,BĂLĂCEANU MIHAI
申请号:
RO201200910
公开号:
RO129452B1
申请日:
2012.11.29
申请国别(地区):
RO
年份:
2016
代理人:
摘要:
The invention relates to materials made of hard thin layers as single layers adhering to the carrier they are applied to, resistant to corrosion, having biocompatible properties, meant to be used for increasing the life of implantable active medical devices. According to the invention, the materials are made of thin layers as single layers of silicon-oxynitrides of the general formula MeMeSiON, where Meand Meare various biocompatible transition metals from the series Ti, Zr, Nb, Ta and Hf, where the elemental concentrations for Me, Me, O and N vary from 10% to 90%, the Si concentration varies from 4% to 8%, the Me:Meconcentration ratio varies from 0.1 to 0.9 and the sum of the oxygen and nitrogen concentrations and the sum of concentrations of the constituent metals are in a ratio (O+N):(Me+Me) which varies from 0.5 to 2.Invenţia se referă la materiale din straturi subţiri, dure, sub formă de monostraturi, aderente la suportul pe care au fost depuse, rezistente la coroziune, cu proprietăţi biocompatibile, utilizate în scopul creşterii duratei de viaţă a dispozitivelor medicale implantabile active. Materialele conform invenţiei sunt formate din straturi subţiri, sub formă de monostraturi, din silico-oxinitruri, având formula generală MeMeSiON, unde Meşi Mesunt metale de tranziţie biocompatibile diferite, din seria Ti, Zr, Nb, Ta şi Hf, în care concentraţiile elementale pentru Me, Me, O şi N variază între 10% şi 90%, concentraţia de Si variază între 4% şi 8%, raportul concentraţiilor Me/Mevariază între 0,1 şi 0,9, iar raportul dintre suma concentraţiilor de oxigen şi azot şi suma concentraţiilor metalelor constituente (O+N)/(Me+Me) variază între 0,5 şi 2.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充