[Problem] To provide: a copolymer having a carbosiloxane dendrimer structure, the copolymer being characterized by containing a dramatically reduced amount of monomer having a carbosiloxane dendrimer structure； a composition, cosmetic ingredient, coating forming agent, and cosmetic containing the same； and a method for producing said copolymer, etc. [Solution] The present invention pertains to: a copolymer of (a1) an unsaturated monomer having a carbosiloxane dendrimer structure comprising a radical-polymerizable organic group and (a2) an unsaturated monomer, different from component (a1), comprising a radical-polymerizable vinyl group, the copolymer containing no more than 2,500 ppm unreacted unsaturated monomer (a1) and saturated monomer originating from the unreacted unsaturated monomer (a1)； and uses for the same.La présente invention vise à fournir : un copolymère ayant une structure de dendrimère de carbosiloxane, le copolymère étant caractérisé en ce qu'il contient une quantité considérablement réduite de monomère ayant une structure de dendrimère de carbosiloxane ； une composition, un ingrédient cosmétique, un agent de formation de revêtement, et un produit cosmétique le contenant ； et un procédé de production dudit copolymère, etc. La présente invention concerne par conséquent un copolymère de (a1) un monomère insaturé ayant une structure de dendrimère de carbosiloxane comprenant un groupe organique polymérisable par voie radicalaire et (a2) un monomère insaturé, différent du composant (a1), comprenant un groupe vinyle polymérisable par voie radicalaire, le copolymère ne contenant pas plus de 2500 ppm de monomère insaturé n'ayant pas réagi (a1) et un monomère saturé provenant du monomère insaturé n'ayant pas réagi (a1) ； et leurs utilisations.［課題］カルボシロキサンデンドリマー構造を有する単量体の含有量が著しく低減されたことを特徴とする、カルボシロキサンデンドリマー構造を有する共重合体、これを含有する組成物、化粧料原料、皮膜形成剤及び化粧料、当該共重合体等の製造方法を提供する。［解決手段］（ａ１）ラジカル重合可能な有機基を有するカルボシロキサンデンドリマー構造を有する不飽和単量体と、（ａ２） (ａ１)成分とは異なる、ラジカル重合性のビニル基を有する不飽和単量体の共重
