An x-ray apparatus comprises an x-ray source and an x-ray detector and there between a member that is configured to perturb x-ray photons incident thereon. The apparatus further comprises a first database of values representative of material type and material thicknesses, a second database of scatter radiation values indicative of material type and/or material thicknesses, a processor configured to perform an algorithm which compares the output signal of the x-ray detector with values in the first database and to output a most likely material and/or thickness from the first database； selects from the second database the scatter radiation associated with the material type and/or material thickness； and removes the scatter radiation from an output signal of the x-ray detector.L'invention concerne un appareil à rayons x qui comporte une source de rayons x et un détecteur de rayons x et entre ceux-ci un élément qui est configuré pour perturber des photons de rayons x incidents sur celui-ci. L'appareil comporte en outre une première base de données de valeurs représentatives du type de matériau et des épaisseurs de matériau, une seconde base de données de valeurs de rayonnement diffus indicatives du type de matériau et/ou des épaisseurs de matériau, un processeur configuré pour exécuter un algorithme qui compare le signal de sortie du détecteur de rayons x avec des valeurs dans la première base de données et pour sortir le matériau et/ou l'épaisseur la plus probable de la première base de données ； sélectionne, dans la seconde base de données, le rayonnement diffus associé au type de matériau et/ou à l'épaisseur de matériau ； élimine le rayonnement diffus d'un signal de sortie du détecteur de rayons x.
