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光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板および有機ＥＬ表示装置
- 专利权人:
- 富士フイルム株式会社
- 发明人:
- 吉田 慎平,鈴木 雅明,雨宮 一洋,大谷 健人
- 申请号：
- JP20160545593
- 公开号：
- JPWO2016031881(A1)
- 申请日:
- 2015.08.26
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、点欠陥のない光学積層体およびその製造方法ならびに光学積層体を用いた偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供すること課題とする。本発明の光学積層体は、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとを有し、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが直接接して設けられる光学積層体を作製する光学積層体の製造方法であって、光学異方性層Ａを形成する組成物ａと、光学異方性層Ｂを形成する組成物ｂとが、いずれもフッ素化合物を含有し、組成物ａを用いて光学異方性層Ａを形成した後に、組成物ｂを用いて光学異方性層Ｂを形成する際に、組成物ａおよび組成物ｂが、所定の表面張力の関係を満たす条件で、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂをこの順で形成する、光学積層体の製造方法である。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
