水性擦拭清洁化妆料
- 专利权人:
- 北京花印仁美贸易有限公司;捷鸥化妆品株式会社
- 发明人:
- 汤浅隆太,中野彰浩
- 申请号：
- CN201310729397.3
- 公开号：
- CN103637930B
- 申请日:
- 2013.12.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种清洁力、低刺激性、没有泡沫残留的使用性及保存稳定性优异的用于除去彩妆化妆料的水性擦拭清洁化妆料、及将该化妆料含浸于基体材料而成的用于除去彩妆化妆料的擦拭用化妆片。在用于除去彩妆化妆料的水性擦拭清洁化妆料中，将聚氧乙烯(辛酸/癸酸)甘油酯等(A)聚氧乙烯脂肪酸甘油酯的含量设为3～10质量%，将月桂基甜菜碱等(B)两性表面活性剂的含量设为0.005～2质量%及将丙二醇等(C)多元醇设为1～12质量%的比例，且以实质上不含阴离子性表面活性剂及阳离子性表面活性剂的方式进行调整。通过使该清洁化妆料含浸于基体材料，制成能够携带的擦拭用化妆片。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
