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ELECTRON BEAM STERILIZATION EQUIPMENT WITH A SELF-GENERATED STERILE-IN-PLACE UNIT
专利权人:
HITACHI ZOSEN CORPORATION
发明人:
Bakhtari, Kaveh
申请号:
JPJP2015/006340
公开号:
WO2016/113807A1
申请日:
2015.12.21
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要:
Electron beam sterilization equipment (1) sterilizes a sterilization object (O), e.g., a preform (P) by exposure to electron cloud (C) formed using an electron beam (E). It (1) includes an electron beam generator (3) that generates the electron beam (E) into electron cloud (C) and a housing (5) that accommodates the electron beam generator (3). It (1) further includes an ozone generating component (2) and a drive unit (7) that are stored in the housing (5), and a control unit (6). The ozone generating component (2) is located in a position so as to enable surface interaction with the electron cloud (E) when the preform (P) is not sterilized. The surface interaction generates secondary electrons, consequently ozone generation is significantly enhanced using the secondary electrons. The drive unit (7) moves the ozone generating component to the location while the control unit (6) controls ozone in the housing (5).Linvention concerne un équipement de stérilisation par faisceau délectrons (1) qui stérilise un objet de stérilisation (O), par exemple une préforme (P), en lexposant à un nuage délectrons (C) formé à laide dun faisceau délectrons (E). Ledit équipement (1) comprend un générateur de faisceau délectrons (3), qui génère le faisceau délectrons (E) en un nuage délectrons (C), et un boîtier (5), qui loge le générateur de faisceau délectrons (3). Ledit équipement (1) comprend en outre un élément de génération dozone (2) et une unité dentraînement (7), qui sont stockés dans le boîtier (5), et une unité de commande (6). Lélément de génération dozone (2) se trouve dans une position qui permet une interaction de surface avec le nuage délectrons (E) lorsque la préforme (P) nest pas stérilisée. Linteraction de surface génère des électrons secondaires, par conséquent la génération dozone est considérablement améliorée à laide des électrons secondaires. Lunité dentraînement (7) déplace lélément de génération dozone vers lemplacement, alors que lunité de commande (6) régule
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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