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N端修飾之干擾素-α
专利权人:
PHARMAESSENTIA CORP.
发明人:
WU, BRYAN,吴灿辉,吳燦輝,SHEN, TSAI KUEI,沈才贵,沈才貴,HSU, MING PIN,许明彬,許明彬,TENG, CHING-LEOU,詹青柳
申请号:
TW097137779
公开号:
TWI544930B
申请日:
2008.10.01
申请国别(地区):
TW
年份:
2016
代理人:
摘要:
A method of reducing formation of non-natural disulfide bonds in a mature IFN-α by adding one or more amino acid residues to its N-terminus cystein. Also disclosed herein is the IFN-α thus modified.一種降低成熟IFN-α之非天然性雙硫鍵之形成之方法,其係藉由將一或多個胺基酸殘基添加至其N端半胱胺酸而進行。本文亦揭示經如此修飾之IFN-α。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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