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电荷粒子照射系统以及电荷粒子照射方法
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 藤井佑介,梅川彻,梅泽真澄,白土博树,梅垣菊男,宫本直树,松浦妙子
- 申请号：
- CN201280058710.9
- 公开号：
- CN104053475B
- 申请日:
- 2012.11.14
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种电荷粒子束照射系统以及电荷粒子照射方法，其在选通照射时照射对象产生不规则变动时也进行高效的照射，由此能够缩短照射时间，缩短治疗时间。根据基于规则的移动信号的规则出射许可结束信号的接收，停止射束的出射。另一方面，根据出射许可结束信号的接收，可出射状态维持功能(46b)工作。如果在待机中没有再接收到出射许可开始信号而经过了设定待机时间，则可出射状态维持功能(46b)结束工作。电荷粒子束产生装置(1)对射束进行减速。也有时根据照射中的不规则的出射许可结束信号的接收来停止射束的出射。另一方面，根据出射许可结束信号的接收，可出射状态维持功能(46b)工作，电荷粒子束产生装置(1)维持可出射状态。如果在待机中再接收到出射许可开始信号，则再开始射束的出射。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
