An implant assembly for stabilizing a spinal motion segment includes a spacer which is at least partially flexible and positionable between adjacent spinous processes. The spacer member includes upper and lower surfaces structured to receive a respective adjacent one of the upper and lower spinous processes of the spinal motion segment and a body having flexibly distinctive first and second sections relative to one another configured to modify the manner of movement at the spinal motion segment.L’invention concerne un ensemble implant pour stabiliser un segment fonctionnel vertébral qui comprend un élément d’espacement qui est au moins partiellement flexible et positionnable entre des processus épineux adjacents. L’élément d’espacement comprend des surfaces supérieure et inférieure structurées pour recevoir un processus épineux adjacent respectif parmi les processus épineux supérieur et inférieur du segment fonctionnel vertébral et un corps présentant des première et seconde sections distinctives, d’une manière flexible, l’une par rapport à l’autre configuré pour modifier le type de déplacement au niveau du segment fonctionnel vertébral.
