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Method and system for improving airway patency
专利权人:
アプニキュア,;インコーポレイテッド;アプニキュア, インコーポレイテッド
发明人:
バスカ, マティアス,ポドモア, ジョナサン,クロエ, ジョン エドワード,ダニエル, シーン クリストファー,バスカ, マティアス,ポドモア, ジョナサン,クロエ, ジョン エドワード,ダニエル, シーン クリストファー
申请号:
JP2010534185
公开号:
JP5404642B2
申请日:
2008.11.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
An oral device for improving airway patency is provided which do not require that a clear region be created below the palate in the oral cavity. The device comprises an anchor structure and a means for applying a negative pressure directly to at least one region lateral to a posterior region of the tongue. Various plenum structures which align a vacuum source on either or both sides of the tongue are suitable. Methods comprise applying a negative pressure to at least one region lateral to a posterior portion of the tongue in the oral cavity to open the airway behind the soft palate.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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