具有可重新定位电极的除霜设备
- 专利权人:
- 恩智浦美国有限公司
- 发明人:
- 大卫·保罗·莱斯特,利昂内尔·蒙然
- 申请号：
- CN201911189105.5
- 公开号：
- CN110810699A
- 申请日:
- 2019.27.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 一种除霜系统包括:射频(RF)信号源;至少一个电极,至少一个电极靠近其内定位有待除霜负载的腔;传输路径,传输路径在RF信号源与电极之间;在传输路径中的至少一个母排,至少一个母排包括电极可以耦合到的多个端口;可重新定位搁架,可重新定位搁架附接到电极;以及安置在腔的侧壁上的多个支撑结构,多个支撑结构支撑可重新定位搁架。支座隔离器可以将电极附接到可重新定位搁架并且可以将电极与可重新定位搁架电隔离。通过移动可重新定位搁架以由多个支撑结构中的不同支撑结构支撑,同时将电极耦合到母排的多个端口中的不同端口,可以改变电极的竖直位置。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
