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입자 표면 처리방법 및 이에 의해 제조된 입자
专利权人:
NANOBRICK CO.; LTD.
发明人:
JOO, JAE HYUN,주재현
申请号:
KR1020130143292
公开号:
KR1020130136418A
申请日:
2013.11.22
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
The present invention relates to a method for treating a surface of a particle for enhancing dispersibility and a particle manufactured by the same. More particularly, the method for treating a surface of a particle comprises the steps of: performing acid treatment mixing the acid-treated particle with an aqueous solvent and a mixing an organic ligand with a surface treatment agent. The particle does not require surface treatment with silica (TEOS) and polyethylene glycol (PEG) and has excellent magnetic characteristic and excellent dispersibility in an oil-soluble solvent, and can be mass-manufactured.COPYRIGHT KIPO 2014[Reference numerals] (a) Acid treatment of a particle(AA) Start(b) Mixing acid-treated particle with an aqueous solvent(BB) End(c) Mixing with a surface treatment agent본 발명은 분산성을 높이기 위한 입자 표면 처리 방법 및 이에 의하여 제조된 입자에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명에 의한 입자 표면 처리 방법은 입자를 산 처리하는 단계, 산 처리된 입자를 수용성 용매와 혼합하는 단계 및 유기 리간드를 포함하는 표면 처리제와 혼합하는 단계를 포함한다. 실리카(TEOS)나 폴리에틸렌글리콜(PEG)의 표면 처리가 필요하지 않고, 우수한 자기적 특성을 가지면서 지용성 용매에서도 분산성이 우수하고, 대량생산이 가능하다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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