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加速器及び粒子線照射装置
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
青木 孝道,えび名 風太郎,西内 秀晶,原 重充,梅澤 真澄,関 孝義
申请号:
JP20160507949
公开号:
JPWO2016092621(A1)
申请日:
2014.12.08
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
エネルギーが異なるイオンビームを効率良く出射できる加速器を提供する。加速器4は、円形のリターンヨーク5A,5Bを含む円形の真空容器を有する。入射用電極18が、真空容器の中心軸Cよりも、リターンヨーク5B内のビーム出射経路20の入口側に配置される。磁極7A〜7Fが、リターンヨーク5B内で入射用電極18の周囲において入射用電極18から放射状に配置される。凹部29A〜29Fが、リターンヨーク5Bの周方向で磁極7A〜7Fと交互に配置される。真空容器内において、入射用電極18を中心とする複数のビーム周回軌道が存在する軌道同心領域、及びこの領域の周囲に、入射用電極18から偏心した複数のビーム周回軌道が存在する軌道偏心領域が形成される。軌道偏心領域では、入射用電極18とビーム出射経路20
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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