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プラズマの流れを供給するための装置
专利权人:
リンデ アクチエンゲゼルシャフト
发明人:
ホルベッチ,トーマス・ビックフォード
申请号:
JP2014515275
公开号:
JP2014523063A
申请日:
2012.06.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention provides an apparatus ( 10 ) for forming a gaseous plasma containing active species for treating a treatment area in the surrounding atmospheric pressure . The apparatus includes a plasma cell ( 12 ) to form a gaseous plasma for treating a treatment area . Plasma cell has an outlet ( 20 ) to release the active species generated in the inlet (16 ) cell for receiving the gas from the source ( 18 ) . A dielectric substrate made of polyimide ( 22 ) is optionally surrounding the flow path for the gas to be conveyed from the inlet to the outlet along the flow path of the dielectric substrate to form an activated species by activating a gas electrodes ( 26 ) are formed on . For the active species generated in the plasma cell ( 12 ) is prevented from reacting with the material of the dielectric substrate ( 22 ) , the protective coating or lining ( 32 ) is disposed on the inner surface of the dielectric substrate ( 22 ) to have . [ Selection Figure ] Figure 1本発明は、処理領域を処理するための活性種を含むガス状のプラズマを周囲の大気圧において形成するための装置(10)を提供する。この装置は、処理領域を処理するためのガス状のプラズマを形成するためのプラズマセル(12)を有する。プラズマセルは、供給源(18)からガスを受け入れるための入口(16)とセルの中で発生した活性種を放出するための出口(20)を有する。ポリイミドから成る誘電体基板(22)が入口から出口まで運ばれるガスのための流路を取り囲んでいて、流路に沿ってガスを活性化することによって活性種を形成するために誘電体基板の上に電極(26)が形成されている。プラズマセル(12)の中で発生した活性種が誘電体基板(22)の材料と反応するのを防ぐために、保護コーティングまたはライニング(32)が誘電体基板(22)の内表面上に配置されている。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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