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化粧のり向上用化粧料
专利权人:
三省製薬株式会社
发明人:
本多 伸介
申请号:
JP2009250970
公开号:
JP5610741B2
申请日:
2009.10.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a non-occulsive cosmetic with an improved smooth makeup application and good feeling on use.SOLUTION: This cosmetic provides a desired one with an improved smooth makeup application by mixing kojic acid and/or a glycoside thereof and a specific methylene bis(hydroxyphenyl/benzotriazole) derivative, and also using at least one of silicone-treated titanium oxide, zinc oxide, and silk or nylon powder in combination.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】肌への閉塞感のない使用感良好な化粧のり向上用化粧料の提供を可能とする。【解決手段】コウジ酸および/またはその配糖体と特定のメチレンビス(ヒドロキシフェニル-ベンゾトリアゾール)誘導体を配合することで、さらには当該配合に加え、シリコーン処理された酸化チタン、酸化亜鉛、シルク末またはナイロン末の少なくとも1種を併用することで所望の化粧のり向上用化粧料が提供できる。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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