PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical interference tomographic meter capable of removing overlapping of artifact of single reflection and multiple reflection on an optical element surface of an optical path in order to acquire correctly a tomogram of a specimen.SOLUTION: A distance X satisfies a prescribed condition, which is selected based on a condition that U-2Z is positioned in a pair of a prescribed working distance W, a region S of interest, and a surface of an optical element on an optical path, relative to a depth U from the surface of a specimen to the region of interest, and to a position Z showing the shallowest position of the region of interest.SELECTED DRAWING: Figure 5COPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】 被検物の断層像を正しく取得するために、光路の光学素子面の単反射および多重反射のアーチファクトの重なりを排除することができる光干渉断層計を提供する。【解決手段】 被検物の表面から関心領域までの深さUおよび関心領域の最も浅い位置を示す位置Zに対して、U-2Zが所定の作動距離W,関心領域S,光路上にある光学素子の表面の対の中である条件に基づいて選択される距離Xが所定の条件を満たすことを特徴とする。【選択図】 図5
