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エステル基含有ホスファゼン化合物、その調製方法、および、それを含む、樹脂組成物、プリプレグ、複合金属基板、回路基材、フレキシブル銅張積層板、用途
- 专利权人:
- ▲広▼▲東▼▲広▼山新材料股▲ふん▼有限公司
- 发明人:
- 潘 ▲慶▼崇
- 申请号：
- JP20170127177
- 公开号：
- JP2018002721(A)
- 申请日:
- 2017.06.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】本発明は、化学式１に示される構造を備えるエステル基含有ホスファゼン化合物に関する。【解決手段】ホスファゼン化合物にエステル基を導入し、末端にグラフトしたヒドロキシ基とカルボキシル基を基材である高分子と反応させることで、ホスファゼン化合物の導入によって基材の難燃性を向上させるとともに誘電率を低下させる効果を奏する。窒素原子とリン原子は、従来技術のような添加による配合ではなく、前記基材である高分子に反応によって直接結合されるため、難燃剤の添加が原因で基材の機械的特性が低下することがない。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
