Ｎｉ−Ｐ合金又はＮｉ−Ｐｔ−Ｐ合金からなるスパッタリングターゲットの製造方法
- 专利权人:
- ＪＸ金属株式会社
- 发明人:
- 大橋 一允,小田 国博
- 申请号：
- JP20160510224
- 公开号：
- JPWO2015146604(A1)
- 申请日:
- 2015.03.12
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- Ｐ含有量が１５〜２１ｗｔ％、残部がＮｉ及び不可避的不純物からなるＮｉ−Ｐ合金を溶解し、アトマイズ加工して、平均粒径１００μｍ以下のＮｉ−Ｐ合金アトマイズ加工粉を作製した後、このＮｉ−Ｐ合金アトマイズ加工粉に純Ｎｉアトマイズ粉を混合し、これをホットプレスすることを特徴とするＮｉ−Ｐ合金スパッタリングターゲットの製造方法。本発明は、目標組成からのズレが小さい、Ｎｉ−Ｐ合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供することを課題とする。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
