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一种减少全瓷嵌体与洞壁之间的微渗漏的方法
专利权人:
中国人民解放军第四军医大学
发明人:
张亚庆,吕海鹏,王蕾,范晓敏,柴雪
申请号:
CN201410033308.6
公开号:
CN103800087A
申请日:
2014.01.23
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
本发明属于牙科微嵌体渗漏防治技术,公开了一种减少全瓷嵌体与洞壁之间的微渗漏的方法。该减少全瓷嵌体与洞壁之间的微渗漏的方法,包括以下步骤:首先在离体牙上制备窝洞;根据窝洞的形状数据制备对应的全瓷嵌体;利用水激光对离体牙表面进行扫描式照射,进行扫描式照射的时间为设定照射时间,在扫描式照射的过程中,水激光的激光头垂直对准离体牙表面,水激光的激光头与离体牙表面的距离保持在设定照射距离;使用质量百分浓度为9.6%的氢氟酸对全瓷嵌体进行酸蚀处理;利用树脂粘结剂将全瓷嵌体粘固于对应的离体牙上,加压,使之与所述窝洞的洞壁贴合。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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